资深的技术人员，北方微电子公司刻蚀机项目负责人，他在半导体装备研发道路上的足迹，跨越了从“八五”到“十二五”的历程。

打造民族的优秀品牌，是他内心的使命和情怀。他刻苦攻关，努力钻研，奋勇争先，持之以恒，和同事们齐心协力，取得一次次突破，获得了一项项成果。“100nm高密度等离子刻蚀机”项目用3年多的时间进行四代具有自主知识产权的刻蚀研制，使我国刻蚀设备研制水平跨越5个技术代；“90/65nm刻蚀机研发与产业化”项目提高了我国集成电路关键设备的技术水平；“32-22nm栅刻蚀机产品研发及产业化”项目使产品达到国际同等设备水平，部分指标优于竞争对手的产品；“14nm立体栅刻蚀机研发及产业化”项目达到国际大生产线最先进的技术水平，将实现我国的刻蚀机水平与国际处于同一技术代，是刻蚀机技术一个里程碑。

李东三说，蓝图已经绘就，发展只争朝夕，市场形势紧迫，感受到压力的同时，也给了我们巨大的动力，我相信我们产品一定会突出重围，走向国际舞台。